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Luxium 1D/2D閃爍體陣列:醫療成像、安檢掃描及工業檢測應用

發布時間：2026-01-15 08:50:12     瀏覽：82

閃爍晶體閃爍晶體陣列Luxium 1D/2D閃爍體陣列

　　一、 陣列應用概述

　　Luxium 閃爍晶體陣列主要用于輻射探測與成像，根據結構不同分為兩大類：

　　線性陣列(1D)：：應用于CT掃描(醫療/安檢/工業)、線掃描(安檢/工業)及各類科研項目 。

　　二維陣列(2D)：提供成像能力，應用于CT掃描、核醫學(如SPECT/PET)、入口成像、X射線閃速放射照相、無損檢測及各種研究與空間應用。

　　應用與材料匹配表：

應用領域CsI(Tl)CdWO?BGOLYSO
伽馬相機X


CT成像
X

正電子發射斷層掃描

XX
線掃描XX

工業成像XX

閃速放射照相

X
數字放射照相

X

　　二、 核心閃爍晶體材料特性與選擇

　　選擇材料需綜合考慮應用需求、光電讀出設備等因素。

特性參數CsI(Tl)CdWO?BGOLYSO
密度 (g/cm3)4.5187.137.1
相對光輸出54 (最高)13932
主衰減時間1 μs14 μs300 ns41 ns
余輝0.5-5% @6ms0.1% @3ms0.005% @3ms<0.1% @6ms
最大發射波長565 nm475 nm480 nm420 nm
輻射硬度中等高高高
吸濕性輕微否否否
突出特性光輸出最高，具有延展性，易于加工成各種幾何形狀。高密度、低余輝、耐輻射性能極佳。密度高，余輝極低。具有高密度、短衰減時間和改進的光輸出及能量分辨率。
主要應用伽馬照相機、CT成像、行掃描、數字放射照相。醫療和工業CT掃描、300+ keV 集裝箱/車輛掃描。PET成像、工業成像、閃光放射照相。PET成像、CT成像、閃光放射照相。

　　三、 陣列設計關鍵參數

　　設計陣列時需定義以下參數，以優化特定應用的性能：

　　1.材料：閃爍晶體類型。

　　2.像素尺寸：每個閃爍體像素的X和Y維度。

　　3.隔離/反射層類型與厚度：像素間的反射層材料及其厚度(間隙)。

　　4.節距：相鄰像素中心之間的距離(像素尺寸 + 間隙厚度)。

　　5.輻射厚度：陣列沿入射輻射方向的厚度(Z維度)。

　　6.背反射層厚度：通常應用于輻射入射面，將光反射回像素。

　　7.末端像素處理：末端晶體可能需要特殊反射層厚度。

　　常規可生產的最小像素尺寸指南：

材料線性陣列 (mm)二維陣列 (mm)備注
CsI(Tl)0.30.5
CdWO?0.31受解理面限制
BGO0.30.3
LYSO0.80.8最小尺寸未經測試

　　四、 陣列型號命名規則


1D Array2D Array

Example of a Model Number82.58X4.2A30/16/5.2CsI(Tl)82.58X4.2A30/16x4/5.2x4CsI(Tl)
1Active area length82.5882.58
2Active area height4.1754.175
3X-ray crystal depth (Z)3030
4Number of pixelsIf the array is 2D,this is in the format [Pixels X][Pixels Y].1616x4
5Pitch [X + Gap X(A)]If the array is 2D AND the pitch is different in X and Y,this is in the format [X+GapX(A)]x[Y+GapY(B)].5.25.2x4
6ScintillatorCsI(Tl)CsI(Tl)
Note:All dimensions in mm

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